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有機ナノ薄膜処理技術 NANOS ナノス
当社独自技術による有機ナノ薄膜処理「NANOS(ナノス)」は特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス(SUS)やニッケル(Ni)などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性(耐指紋性)・滑り性(動摩擦係数)向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。
特徴
●優れた撥水性・撥油性
(純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上)
●薄い膜厚をコントロール可能
・スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール)
・真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール)
●光学特性への影響が少ない(無色・透明)
●低温プロセス
・プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さい
撥水・撥油・防汚性
撥水・
撥油性オリーブオイルの油滴による比較 油性マジックペンによる比較 処理あり 処理なし 処理あり 処理なし 指
紋
除
去
性NANOS
処理コーティング
なし2往復 4往復 6往復 8往復 ●基板:ソーダライムガラス ●拭き取り材:ティッシュペーパー「エリエール」
採用実績と効果
採用実績 目的・効果 スプレー法 スキャナ用コンタクトガラス 汚れ付着防止、メンテナンスの向上 光学部品(レンズ、カバーガラスなど) 撥水性付与、汚れ(耐指紋)付着防止 タッチパネル 汚れ(耐指紋)付着防止 はんだ印刷用メタルマスク 印刷性向上、メンテナンスの軽減 真空蒸着法 インクジェットヘッド 印刷性向上 光学部品用金型 離型性向上 スタンパ金型 離型性向上、タクトタイムの短縮 ナノインプリント用金型 離型性向上、微細形状への追従性が高い 転写プロセス用治具(凹版など) 転写性向上(離型剤レス) フォトマスク レジストの付着防止 AFM、STM用プローブ 異物の付着防止